膜系的特性主要取決于構成膜系的材料。例如，氧化物層通常比氟化物、硫化物或半導體層更為堅硬，因此更適合用于外表面使用。然而，在較寬溫度范圍內使用的濾光片應避免使用半導體膜層，因為半導體的光學常數會隨溫度變化顯著波動。

對于某些金屬材料而言，它們強度較低，易受損傷，并且在大氣中容易氧化。在這種情況下，需要為其添加保護層或將其夾在兩個透明板之間。而對于其他材料，在鍍膜過程中為了確保膜層與基底的良好粘合，有時需在基底上先鍍一層附著層。例如，在玻璃基底上鍍金(Au)膜之前，通常會在玻璃表面鍍一層鎳(Ni)作為附著層。

真空鍍膜技術適用于多種材質，包括金屬、樹脂、塑料（如ABS、發泡塑料、回收塑料）、玻璃（水晶）、陶瓷、亞克力、木材、水泥和磷鎂等。這種技術可廣泛應用于汽車、電器、工藝品、電腦手機、飾品以及高檔家具等行業，從而衍生出多個新的裝飾領域。

非導電樣品具有較大的絕緣電阻，在電子束連續掃描過程中，樣品表面會逐漸積累負電荷，形成高負電場，排斥入射電子，導致二次電子發射不穩定并隨機偏轉其軌跡。這會影響探測器的接收效果，造成圖像晃動、亮度突變和無規則的明暗條紋現象，即所謂的“荷電效應”或“充電效應”。通常在樣品表面鍍一層導電薄膜可以提高其導電性，使表面負電荷通過導電膜釋放至地面上，從而消除荷電現象。要實現這一效果，膜層需與金屬樣品臺形成有效的導電連接。

連續的導電膜不僅可以改善樣品的熱傳導性以減少熱損傷，還能進一步提高其導電性。目前實驗室常用的鍍膜技術包括真空蒸發和離子濺射。

導電膜層應具備高二次電子產率、良好覆蓋性和均勻性，并能在電子束下保持穩定。這種薄膜能夠真實反映樣品表面的微觀細節，有效提升圖像質量。通常選用的鍍膜材料有碳(C)、鋁(Al)、鉻(Cr)、金(Au)、鉑(Pt)和Au-Pd合金等。其中，金(Au)膜因其高二次電子產率、優良的覆蓋性和易于沉積而成為最常用的材料。然而，其顆粒較大，在高倍放大下會顯示出明顯的“島狀結構”，這是一種裝飾假象（見圖1-8a）。鍍金適用于中低分辨率范圍，兩萬倍以下的圖像。鉑(Pt)和Au-Pd合金膜則具有更細小的顆粒，適合于更高分辨率的應用（見圖1-8b）。對于場發射電鏡的要求更加嚴格，至少需在20萬倍放大下仍無結構顯現時才滿足要求，此時高真空鍍鉻(Cr)即可達到需求。

圖1展示了經過鍍膜處理后的塑膠球形貌，其膜層厚度為10納米。